Nanofabrication par faisceaux d’électrons : dispositifs à blocage de Coulomb.
Christophe Vieu (L2M/CNRS, Bagneux)

Jeudi 20 mars 1997

L’élaboration d’objets artificiels à l’échelle du nanomètre ouvre d’intéressantes perspectives dans de nombreux domaines où la réduction de la dimensionalité permet d’envisager des propriétés physiques nouvelles. Bien souvent, la diminution du volume du matériau entraîne une réduction importante du signal qui signe l’effet recherché. Ceci conduit à des difficultés pour la mesure ou pour l’exploitation fonctionnelle des propriétis physiques de ces nano-objets. Ainsi il est nécessaire de pouvoir fabriquer une grande assemblée d’objets avec une rigularité de taille qui évite des effets de moyenne.

Depuis plusieurs décennies, les colonnes électroniques à haute énergie sont capables de délivrer des faisceaux d’électrons focalisés à des dimensions de l’ordre du nanomètre. Nous montrerons comment de tels équipements peuvent être utilisés pour effectuer des opérations de lithographie électronique à très haute résolution qui respectent les exigences de la nanofabrication. Nous présenterons plusieurs exemples d’insolation de films électrosensibles de type organiques ou inorganiques, qui permettent de fabriquer des réseaux d’objets de taille inférieure à 10 nanomètres dans des semi-conducteurs ou des métaux.

La fabrication, l’étude et l’intérêt technologique de dispositifs à blocage de Coulomb pour lesquels le passage des électrons peut être contrôlée électron par électron sera évoquée.